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高光譜影像實驗台2
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實驗台提供工業分類和監控應用分類模型的可能性

EVK HELIOS 實驗台提供了為工業分類和監控應用分類模型的可能性。 此系統由 EVK 高光譜影像相機、照明和模擬輸送帶功能的電動線性平台組成。  EVK HELIOS Laboratory Station CLASS 使用 EVK HELIOS EQ32 高光譜相機並提供分類數據輸出。 EVK HELIOS Laboratory Station CORE 包括 EVK HELIOS EC32 高光譜相機並提供光譜數據,允許客戶使用他們特定的數據分析工具。

實驗台提供工業分類和監控應用分類模型的可能性

供實驗室使用的多合一影像系統

EVK HELIOS 實驗台是供實驗室使用的多合一影像系統。特色包括:可調整速度的電動線性平台,雙線上照明,相機和工作台距離可調整。精簡型設計。具高光譜影像光譜多變性資料分析 (CLASS 版本)。它可以調整工作寬度解析度,協助快速系統建立及資料取得。實驗台可用於概念證實可行,可行性研究,材質分析和材質分類。

供實驗室使用的多合一影像系統

實驗台技術資料

EVK HELIOS Laboratory Station : 尺吋(長寬高)630(730)*430*890(1390)mm。重量約36公斤(含相機),電力需求100~240V, 50~60Hz,相機至工作平台距離268~868mm (依前鏡而異)。線性平台工作270*290mm, 線性平台移動距離最多250mm, 移動速度(可調整)0.08~0.4m/sec ,照明4*300W鹵素燈。EVK HELIOS Laboratory Station CLASS/CORE  主要硬體差異:EVK HELIOS Laboratory Station CLASS搭配EQ32相機;EVK HELIOS Laboratory Station CORE搭配EC32相機。

實驗台技術資料